Park NX12可用于任何一個(gè)項(xiàng)目，NX系列的眾多掃描模式和模塊化設(shè)計(jì)使它可輕松地適應(yīng)任何一個(gè)掃描探針顯微鏡的需求。

標(biāo)準(zhǔn)成像：

• 真正的非接觸模式AFM
• 接觸模式AFM
• 側(cè)向力顯微鏡（LFM)
• 相位成像
• 輕敲式AAFM

電性能：

• 導(dǎo)電AFM
• I-V譜線
• 掃描開爾文探針顯微鏡（SKPM/KPM)
• 高電壓SKPM
• 掃描電容顯微鏡（SCM)
• 掃描電阻顯微鏡（SSRM)
• 掃描隧道顯微鏡 （STM)
• 掃描隧道光譜 （STS)
• 時(shí)間分辨的光電流測繪 （Tr-PCM)

磁性能：

• 磁力顯微鏡 （MFM)
• 可調(diào)外加磁場MFM

化學(xué)性能：

• 掃描電化學(xué)池顯微鏡（SECCM)
• 掃描電化學(xué)顯微鏡 （SECM)
• 電化學(xué)顯微鏡(EC-STM和EC-AFM)
• 功能化探針的化學(xué)力顯微鏡

熱性能：

• 掃描熱感顯微鏡(SThM)

光學(xué)性能：

• 探針增強(qiáng)拉曼光譜 (TERS)
• 時(shí)間分辨的光電流測繪 （Tr-PCM)

介電/壓電性能：

• 靜電力顯微鏡 （EFM)
• 動(dòng)態(tài)接觸式靜電力顯微鏡（DC-EFM)
• 壓電力顯微鏡 （PFM)
• 高電壓PFM

機(jī)械性能

• Pinpoint納米力學(xué)映射
• 力調(diào)制顯微鏡 （FMM)
• 納米壓痕
• 納米刻蝕
• 高電壓納米刻蝕
• 納米操縱
• 壓電力顯微鏡 （PFM)

力測量：

• 力－距離（F-D)光譜
• 力－體積成像
• 熱噪聲法標(biāo)定彈性系數(shù)

原子力顯微鏡 原子力顯微鏡